光刻機光學(xué)系統(tǒng)成焦點，國產(chǎn)替代前景廣闊
2025-01-06 08:48
來源: 云財經(jīng)
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云財經(jīng)訊，2025年1月6日，光刻機作為半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，其光學(xué)系統(tǒng)的重要性日益凸顯。光刻機由光源、曝光和雙工作臺三大核心系統(tǒng)組成，光學(xué)系統(tǒng)約占整體光刻機成本的30%。全球光刻機市場呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，ASML在高端光刻機市場占據(jù)主導(dǎo)地位。國信證券分析師胡劍指出，隨著陸資晶圓代工廠產(chǎn)能的持續(xù)擴張，國產(chǎn)光刻機的需求不斷提升，相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈公司如波長光電(301421)、福晶科技(002222)、福光股份(688010)等將迎來發(fā)展機遇。
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